Umweltschonende Lösungsmittel in der Lithographie

Das Hauptziel dieses Projekts ist es, eine umweltfreundliche Alternative zu den herkömmlichen erdölbasierten Lösungsmitteln in der Halbleiterindustrie zu bewerten. In der Herstellung von Mikrochips werden fotolithographische Verfahren verwendet, um winzige Strukturen auf sogenannten Wafern zu erzeugen. Dabei werden Fotolacke aufgetragen, belichtet und entwickelt. Nach diesem Prozess müssen die Rückstände des Fotolacks und seiner Mischungen vollständig entfernt werden, um hochreine Bauteile und Materialien zu erhalten (Entfernung des Photoresists). Die bisherigen Reinigungsformulierungen für diese Mikroelektronikprozesse basieren größtenteils auf Lösungsmitteln und enthalten aggressive chemische Zusätze wie zum Beispiel NMP. Oft erfordern sie zusätzliche Spül- und Reinigungsschritte sowie umfangreiche Abwasseraufbereitung. Diese  entsprechen häufig nicht den Anforderungen an eine nachhaltige Chemie.

Mit dem Projektpartner intelligent fluids sollen nun Cleaning-Chemien entwickelt und gleichzeitig die Ökobilanz der Phasenfluidtechnologie optimiert werden, um diese für den Einsatz in Industrieanlagen anwenden zu können.